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深圳市延铭标牌工艺有限公司

主营: PMMA面板,精密模切,商标,各类水晶滴胶标

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深圳市延铭标牌工艺有限公司
第10年 |    
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玻璃面板价格询问报价「延铭标牌」

询盘留言|投诉|申领|删除 产品编号:409398129                    更新时间:2021-06-17
深圳市延铭标牌工艺有限公司

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蚀刻方法有哪几种?

答:①手工蚀刻

包括刷蚀、撩泼、摇床等。刷蚀是用排笔将溶液在金属板上来回刷蚀。撩泼是用水勺子将溶液不断地泼向金属板表面,进行蚀刻。摇床是做一个下面有弧度的塑料槽,放入蚀刻液,放入金属板,手工压动槽的一边,使金属板上的蚀刻液来回流动。

②用泼溅式蚀刻机蚀刻

用水车式叶轮,将蚀刻液不断泼向金属板,进行蚀刻。

③用搅拌式蚀刻机蚀刻

在一个大瓷缸的中间装一个带叶片的立轴,做成一个搅拌机,将蚀刻液不断搅动,金属板放在缸边,进行蚀刻。

④用喷淋式蚀刻机蚀刻

用数个喷水头从上向下喷淋蚀刻液,金属板放在下边的传送带上向前走,控制好速度,走出后即蚀刻完毕。

⑤用电解蚀刻机蚀刻

把要蚀刻的金属板接在电源的正极,放平后将喷淋器接在电源的负极,喷出的盐水为导电液,进行电解,达到蚀刻的目的。

深圳市延铭标牌工艺有限公司***制作蚀刻标牌,金属标贴,电铸标牌,金属标牌,黄金标贴等,***,***,发货及时

蚀刻过程中常见的问题

蚀刻速率降低 蚀刻速率降低与许多因素有关, 故需要检查蚀刻条件 (例如﹕温度、 喷淋压力、 溶 液比重、 PH 值和氯化铵的含量等)﹐使其达到适宜的范围。只要工艺上达至调通﹐就可以进行连续性的生产,但关键是开机以后就必需保持连续的工作状态﹐不适宜断断续续地生产。 蚀刻溶液中出现沈淀 是由于氨的含量过低(PH 值降低)﹐或水稀释溶液等原因造成的 (例如:冷却系统漏 水等)。 溶液比重过高也会造成沈淀。 抗蚀镀层被浸蚀 是由于蚀刻液 PH 值过低或 CL 含量过高所造成的。 铜的表面发黑, 蚀刻不动 蚀刻液中 NH4CL 的含量过低所造成的。

负载(Loading)-- 蚀刻速率依赖于可蚀刻表面数量,可在宏观或微观尺寸下。金属标牌蚀刻工艺流程金属的种类不同,其蚀刻工艺的流程也不同,标牌蚀刻是现在比较常见的一种形式,因成本较低,收入稳定大受欢迎,很多人在选择蚀刻加工时都会选择标牌蚀刻法。 纵横比决定蚀刻(Aspect Ratio Dependent Etching/ARDE)--蚀刻速率决定于纵横比。 终点(Endpoint)-- 在一个蚀刻过程中,平均膜厚被蚀刻干净时的时间点。 光刻胶(Photo-resist)-- 作为掩膜用来图形转移的光敏材料。 分辨率(Resolution)-- 用于测试光学系统把相邻的目标形成分离图像的能力。 焦深 (Depth of focus) – 在焦平面上目标能形成影像的纵向距。 关键尺寸(Critical dimensi-CD)-- 一个特征图形的尺寸,包括线宽、间隙、或者 关联尺寸。

化学蚀刻(Chemical etching)-- 气态物质(中性原子团)与表面反应, 产物必定易挥发,也称为等离子蚀刻。 等离子增强蚀刻(Ion-enhanced etching)—单独使用中性原子团不能形成易挥发产物,具有一定 能量的离子改变衬底或产物;具有一定能量的离子改变衬底或产物层,这样,化学反应以后 能生成挥发性物质,亦称为反应离子蚀刻(RIE) 。六、酸/碱体积比的检验方法:开机运行到设定温度后(约15~20分钟),测试酸液及碱液的体积比,在规定范围内方可进行生产。 溅射蚀刻(Sputter etching)--具有一定能量的离子机械的溅射衬底材料。 蚀刻速率(Etch rate)--材料的剥离速率,通常以?/min,?/sec,nm/min, um/min 为单位计 量。 各向同性蚀刻( Isotropic etch)-- 蚀刻速率在所有方向都是相同的。

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